中科院正式签军令状，如今我国光刻机的研发遇到哪些困难？
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发布时间：2022-04-19 10:01
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时间：2023-10-24 01:15
9月16日，国新办举行新闻发布会，介绍中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展有关情况。
在这个发布会上，中科院主要领导强调，要把美国卡脖子的清单变成我们科研任务清单进行布局，比如航空轮胎、轴承钢、光刻机；一些关键核心技术攻关成立领导小组，要求每个承担重大任务的人要签署责任状；在一些最关注的重大的领域，集中全院的力量来做。这就是中科院签订“军令状”的来由，其中光刻机受到了广泛的关注。
众所周知的原因，现在在芯片行业我们受到了美国等西方国家的封锁，造成了我国一些制造企业的困难局面，比如华为。
制造芯片最重要的设备就是光刻机。其实我国也能生产制造光刻机，也在很早的时候就开始研究，在这方面当时也和世界水平比较接近，但是光刻机的前期研究需要投入大量的资金，而且在“造不如买，买不如租”思维影响下，逐渐对于科研不太重视，光刻机研制近乎于停滞，就像当年的“运10”飞机的研制过程一样。
而当我们开始重视芯片产业，国家也投入巨资准备大力支持研发，却出现了“汉芯”造假事件，2003年上海交大微电子学院院长陈进从美国买回芯片，作为自主研发成果，消耗大量社会资源，影响之恶劣可谓空前！以至于很长一段时间，科研圈谈芯色变，严重干扰了芯片行业的正常发展。
目前上海微电子装备有限公司能量产的光刻机是65nm制程。2019年，由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，最高线宽分辨力达到22nm。
这22nm制程的光刻机技术，应该很快就会能够量产，但是与世界主流的先进技术还是相差甚远，而且22nm的芯片，只能应用到一些不太复杂的科技产品上，比如老年手机等等。所以现在我国在光刻机这块是落后于世界先进水平好几代的。
当前光刻机技术最好的是荷兰的ASML公司，已经能够量产5nm制程的光刻机，甚至都拥有了3nm的技术。
可是因为美国的阻挠，我们根本就买不到ASML的产品，中芯国际在去年前曾经抢购到一台7nm的光刻机，钱都已经付了好多个亿，到现在都还没有收到货，可能以后也就收不到了。
硅原料、芯片设计、晶圆加工、封测，以及相关的半导体设备，绝大部分领域我国还是处于“任重而道远”的状态。
但我感觉这次不一样了，制造芯片的设备光刻机已经提升到国家层面，相关部门还立下了“军令状”，这与当年研究原子弹的情形何其相似。
我不相信先进光刻机的难度要大于原子弹，我们当初是一穷二白，完全是从零开始，不也以飞快的速度制造出来了？何况对于光刻机生产我国还是有一些基础的，只是现在还没有达到国际先进水平而已，这比当初制造原子弹的情况要好很多。
1nm就是一些原子了，现有的光刻机技术原理是有天花板的，我相信在我们的科研单位在现有理论下，应该能够很快追上世界水平，但不应仅仅局限在已有的理论中，还要展开新的理论研究，争取尽快生产出更先进的光刻机，使我们的芯片不再受到制约。
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时间：2023-10-24 01:15
要想搞清楚我们国家的光刻机制造出现了哪些困难，首先就要看看现在是什么一个情况，目前来说的话，我们国家光刻机制造能力是肯定有的，但是高端的光刻机就造不出来了，现在我们国家能够生产的光刻机，最大也就14纳米，目前全世界最先进的光刻机已经能够生产5纳米了，这个差距还不是一点半点的大。
因此在制造光刻机的问题上面，不就是要协同半导体整条产业链，才能将一个光刻机给制造好，仅仅只靠一个公司或者一个团体，是完全不可能把光刻机的问题解决的，就像asml这样的公司，也需要整合欧洲和美国的技术，才能够把这个光刻机给生产出来。因此我们国家想要凭着一己之力将高端光刻机给制造出来，这是十分困难的。
在以前的时候，我们国家想asml采购了两台高端光刻机，来研究里面的内部结构，可是到目前为止，光刻机都还没有交付过来，理由就是荷兰*不允许卖这个，连傻子都知道是什么情况，美国*肯定不希望河南将光科技卖给我们国家，一旦我们国家掌握了制造光科技的技术，那么对于欧美的技术封锁就能很快突破。
因此想要走借鉴的捷径是不太可能了，我们只能够在自己能够生产的低端光刻机上面去进行改造升级，这才是唯一的出路，这无异于是半导体行业的一次长征。因此对于光刻机的制造不能够急于求成，而是要做好技术沉淀才能够一举突破技术瓶颈。
我们始终还是要有一个觉悟，光靠外部力量是无法解决这个问题的，我们只能够自己在这一方面去摸索探寻，俗话说落后就要挨打，看看现在华为这样的处境，就是在*着我们往前进，我相信我们中国很快能够造出属于我们自己的高端光刻机。
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时间：2023-10-24 01:16
中科院正式签军令状，如今我国光刻机研发有什么困难，据消息透露，华为正在大量招光刻机的技术工程师，但这对华为来说还是有非常大的困难，因为光刻机技术，不可能再短时间内研发成功，当我们的事制造业材料学等技术取得突破提升时，就能突破这个难题了，我相信我们国家科技人员的能力，会很快的克服这个困难的
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时间：2023-10-24 01:16
首先是我国在光刻机上的各个零件的采购问题，我们*于其他国家。单说一个镜片，就是德国几代人打磨才造出来的，现在我们图纸都没有，从零开始不可能从短时间突破。这不是打击士气，确实是我们要攻破的问题所在。
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时间：2023-10-24 01:17
光刻机是顶尖技术的代表，也是芯片制造中不可或缺的工具，目前最先进的技术掌握在荷兰的阿斯麦尔公司手里，中国只有90纳米光刻机，距离公司荷兰还很远，此外，光刻机需要经过许多复杂的工艺过程，包括测试部、曝光部、激光、光束校正器、能量控制器、光束形状设置等，而且每个过程必须精心制作，需要数百个零件来支持操作，但是中科院签下了军·令·状，我们就相信中国人一定能行！
